Uređaj za depoziciju atomskih slojeva (Šestar ID: 1618)

Uređaj za depoziciju atomskih slojeva
  • Opći podaci o instrumentu

    Skraćeni naziv instrumenta

    ALD

    Inventarni broj

    4957

    Opći opis

    ALD je tehnika depozicije iz pare kojom se mogu narastati tanki filmovi na površinama različitih podloga: planarnim objektima, poroznim materijalima i kompleksnim 3D objektima. Karakterističan ALD proces se sastoji od pulsiranja najčešće dva prekursora u plinovitoj fazi koji reagiraju s površinom podloge. Ovaj proces se ponavlja sve dok se ne postigne željena debljina filma. Zbog samoograničavajuće prirode ALD kemijskih procesa moguće je narastanje uniformnih slojeva jednake debljine bez obzira na geometriju supstrata, precizno kontroliranje sastava i debljine filma. U našem ALD sistemu najčešće se sintetiziraju oksidni tanki filmovi kao što su: ZnO, Al2O3, TiO2, SiO2 i nitridi: AlN, TiN, Si3N4.

    Uža područja primjene

    Fizika površina

    Namjena instrumenta

    Narastanje tankih filmova na površinama različitih podloga

    Popis usluga

    Narastanje tankih filmova na površinama različitih podloga

    Opis na stranicama zavoda/laboratorija

    https://www.phy.uniri.hr/hr/ustroj/29-hr/ustroj/laboratoriji/1290-laboratorij-za-tanke-filmove.html

    Tijelo koje je financiralo nabavku opreme

    Ministarstvo znanosti i obrazovanja RH (MZO), Europska komisija

    Naziv projekta u sklopu kojeg je instrument nabavljen

    Razvoj istraživačke infrastrukture za laboratorije na Kampusu Sveučilišta u Rijeci

    Kategorija

    kapitalna

    Vrsta instrumenta

    uređaj za depoziciju atomskih slojeva

    Ključne riječi

    Depozicija tankih filmova

    Samostalan/Vezan

    Samostalan instrument

    Trenutno stanje instrumenta

    Potpuno funkcionalan

    Procijenjeni broj korisnika

    7

    Godina proizvodnje

    2015

  • Ustanova i lokacija

    Ustanova

    Sveučilište u Rijeci, Centar za mikro- i nanoznanosti i tehnologije
    Radmile Matejčić 2, Rijeka

    Zavod

    Zavod za eksperimentalnu i primijenjenu fiziku

    Laboratorij

    Laboratorij za tanke filmove

    Grad

    Rijeka

    Ulica i broj

    Radmile Matejčić 2

    Krilo/Kat/Soba

    O-S21

  • Uvjeti korištenja

    Način korištenja instrumenta

    samostalni rad - ovlašteni korisnici, znanstvena suradnja, servis uz naplatu za sve korisnike

    Upute za korisnike

    ALD tehnikom se mogu narastati tanki filmovi na površinama različitih podloga: planarnim objektima, poroznim materijalima i kompleksnim 3D objektima. Nije dozvoljen samostalan rad vanjskim korisnicima na instrumentu - na instrumentu rade ovlašteni korisni

    Popis ovlaštenih korisnika

    doc. dr. sc. Iva Šarić (Odjel za fiziku i Centar za mikro- i nanoznanosti, Sveučilište u Rijeci)
    doc. dr. sc. Robert Peter (Odjel za fiziku i Centar za mikro- i nanoznanosti, Sveučilište u Rijeci)
    Prof. dr. sc. Mladen Petravić (Odjel za fiziku, Sveučilište u Rijeci)

    Broj istovrsnih instrumenata u ustanovi

    1

    Znanstvena suradnja

    kvalificirana/zadužena osoba radi cjelovitu analizu (priprema, snimanje i interpretacija)

    Je li instrument prenosiv

    ne

    Je li moguće korištenje instrumenta na daljinu (remote)

    ne

  • Voditelj instrumenta (Kontakt osoba I)

    Ime i prezime

    Iva Šarić

    Titula

    Doc. dr. sc.

    E-mail

    iva.saric@uniri.hr

    Telefon

    +38551584638

  • Kontakt osoba II

    Ime i prezime

    Robert Peter

    Titula

    Doc. dr. sc.

    E-mail

    rpeter@phy.uniri.hr

  • Karakteristike

    Model

    Beneq TFS 200 ALD sistem s plazmom za PEALD i generatorom ozona

    Mrežna (URL) adresa instrumenta na stranicama proizvođača

    https://beneq.com/en/thin-films/products/ald-research-equipment/beneq-tfs-200

    Princip rada i mjerna tehnika

    ALD je tehnika depozicije iz pare kojom se mogu narastati tanki filmovi na površinama različitih podloga: planarnim objektima, poroznim materijalima i kompleksnim 3D objektima. Karakterističan ALD proces se sastoji od pulsiranja najčešće dva prekursora u plinovitoj fazi koji reagiraju s površinom podloge. Ovaj proces se ponavlja sve dok se ne postigne željena debljina filma. Zbog samoograničavajuće prirode ALD kemijskih procesa moguće je narastanje uniformnih slojeva jednake debljine bez obzira na geometriju supstrata, precizno kontroliranje sastava i debljine filma. U našem ALD sistemu najčešće se sintetiziraju oksidni tanki filmovi kao što su: ZnO, Al2O3, TiO2, SiO2 i nitridi: AlN, TiN, Si3N4.

    Proizvođač

    Beneq

    Mrežna (URL) adresa proizvođača

    https://beneq.com/en/

    Ostale tehničke karakteristike

    Uređaj za depoziciju tankih filmova (ALD) – sistem Beneq TFS 200:
    -Raspon temperatura sinteze: 25 – 500 °C
    -Maksimalne dimenzije uzorka (obična komora): promjer 200 mm, visina 3 mm.
    -Maksimalne dimenzije uzorka (3D komora): promjer 200 mm, visina 95 mm.
    -Sistem kapacitivne plazme (RF od 13,6 MHz, snaga plazme do 300 W).
    -Generator ozona (ozon se može koristiti kao izvor za ALD sintezu).
    4 tekuća spremnika prekursora spojena na sistem.

  • Slike
    Uređaj za depoziciju atomskih slojeva
    Uređaj za depoziciju atomskih slojeva
  • Dokumenti
  • Linkovi

Natrag