Ozračivanje uzoraka ionskim snopovima moguće je provesti sa svim ionima koji se mogu proizvesti u nekom od dostupnih izvora negativnih iona akceleratorskog sustava IRB-a (sputtering, direct exchange duoplasmatron i Alphatross). Najčešći ioni su H, He, Li, B, Be, C, O, Si, itd.)
Energija iona može biti u području nekoliko desetaka keV (direktno iz ionskih izvora) ili između 400 keV i nekoliko MeV (iz nekog od tandem akceleratora).
Maksimalne ionske struje su 1 uA a ovisi o učinkovitosti ionskog izvora i energiji te nabojnom stanju iona.
Površine uzorka koje se zrače su tipično do 100 mm2, a ukoliko se zračenje vrši na ionskoj mikroprobi površine mogu biti i u području nekoliko mikrometara. Nai ionskoj mikroprobi je moguće zračenje odnsono implantacija i pojedinačnih iona u točno određene pozicije na uzorku s razlučivanjem od 1 um.
Na eksperimentalnoj liniji sa dvostrukim snopom, moguće je istovremeno ozračivanje uzoraka sa dva snopa (iz dva akceleratora)
Tijelo koje je financiralo nabavku opreme
Ministarstvo znanosti i obrazovanja RH (MZO), Matična ustanova, Europska komisija, Instrument je izrađen u ustanovi, Donacija, IAEA
