Ozračivanje ionskim snopovima

Ozračivanje ionskim snopovima
  • Opći podaci o instrumentu

    Skraćeni naziv instrumenta

    Ozračivanje ionskim snopovima

    Opći opis

    Ozračivanje uzoraka ionskim snopovima moguće je provesti sa svim ionima koji se mogu proizvesti u nekom od dostupnih izvora negativnih iona akceleratorskog sustava IRB-a (sputtering, direct exchange duoplasmatron i Alphatross). Najčešći ioni su H, He, Li, B, Be, C, O, Si, itd.)
    Energija iona može biti u području nekoliko desetaka keV (direktno iz ionskih izvora) ili između 400 keV i nekoliko MeV (iz nekog od tandem akceleratora).
    Maksimalne ionske struje su 1 uA a ovisi o učinkovitosti ionskog izvora i energiji te nabojnom stanju iona.
    Površine uzorka koje se zrače su tipično do 100 mm2, a ukoliko se zračenje vrši na ionskoj mikroprobi površine mogu biti i u području nekoliko mikrometara. Nai ionskoj mikroprobi je moguće zračenje odnsono implantacija i pojedinačnih iona u točno određene pozicije na uzorku s razlučivanjem od 1 um.
    Na eksperimentalnoj liniji sa dvostrukim snopom, moguće je istovremeno ozračivanje uzoraka sa dva snopa (iz dva akceleratora)

    Kategorija

    kapitalna (više od 1000000 kn)

    Vrsta analize

    strukturna analiza

  • Ustanova i lokacija

    Ustanova

    Institut Ruđer Bošković
    Bijenička cesta 54, Zagreb

  • Kontakt osoba I

    Ime i prezime

    Milko Jakšić

    E-mail

    jaksic@irb.hr

  • Slike
    Komora za raspršenje za ozračivanje s dva ionska snopa
    Komora za raspršenje za ozračivanje s dva ionska snopa

Natrag